低溫等離子除臭設備的凈化原理

 

 

除臭設備的計凈化原理一：

 

除臭設備用***制的高能高臭氧UV紫外線光束照耀惡臭氣體，裂解惡臭氣體如：氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鍵，使呈游離狀況的污染物分子與臭氧氧化結組成小分子無害或低害的化合物，如CO2、H2O等。

 

除臭設備的凈化原理二： 使用高能高臭氧UV紫外線光束分化空氣中的氧分子發(fā)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，從而發(fā)生臭氧。

 

UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對有機物具有極強的氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有馬到成功的鏟除作用。

 

除臭設備的凈化原理三： 惡臭氣體使用排風設備輸入到本凈化設備后，凈化設備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協(xié)同分化氧化反響，使惡臭氣體物質其降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳，再經過排風管道排出室外。

 

除臭設備的凈化原理四： 使用高能UV光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，損壞細菌的核酸（DNA），再經過臭氧進行氧化反響，完全到達脫臭及殺滅細菌的意圖。